电子行业，半导体、电路板等行业各个水处理过程阶段需要测的参数要求

        在电子行业，半导体、电路板和其他电子元件的制备需要用高纯度水进行洗涤和清洁，以确保产品质量和设备性能。在制备过程中需要检测水的电导率、TOC、pH、二氧化硅含量等参数，从而保障水的纯度；在废水监测中需要对水的COD、氨氮、总磷、总氮、重金属含量，确保废水排放不对环境造成危害。

    测量参数            原水           预处理        深度处理         抛光        回收水          废水                   所需仪表型号
    PH/ORP              √                     √                                              √                √                    √                     PHG-2091Pro/2081Pro
     电导率                                    √                        √                     √                √                                           ECG-2090Pro/2080Pro
      浊度                       √                     √                                                                 √                    √                      TBG-2088S/P
     余/总氯                    √                     √                                                                                                             CLG-2059S/P/2059DPD
    碱度/硬度                                 √                                                                                                               PXG-2058Pro/HA-800
    SiO2 (硅表）                                   √                       √                                                                                        GSGG-5098Pro
   Na(钠离子表）                         √                                                                                                    DWG-5088Pro
   DO(溶解氧仪）                                              √                  √                                   √                          DOG-2092Pro/2082YS
   氟化物                                                                                                                √                    √                            TFG-3058
   重金属                                                                                                                                       √                           TFeG-3060
   COD                                                                                                                                          √                          CODG-3000
   氨氮                                                                                                                                           √                          NHNG-3010
   总磷                                                                                                                                           √                           TPG-3030
   总氮                                                                                                                                            √                           TNG-3020
  半导体行业水处理工艺要求
 

• 预处理。主要将原水中的胶体和悬浮物进行去除，使SDI≤5，同时去除游离氯等氧化性物质和部分有机物，降低LSI，防止出现各种碳酸盐结垢。
• 超纯水制造。主要采用粗过滤器+超滤装置，因为传统的处理方式SDI值不能有效控制，不利于后期系统运行，而超滤装置可以稳定SDI值、占地面积小、更换方便、技术完善、一次投资与维护费用与传统的预处理相差不多。
• 超纯水抛光循环。主要采用MDG(脱氧膜组)、TOC-UV杀菌器、抛光混床(SMB)及终端过滤器。

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